高純度プレーナスパッタリングターゲット

高純度プレーナスパッタリングターゲット

高品質のプレーナスパッタリングターゲットIKSは、強磁性、複合酸化物、および半導体膜の幅広い用途に高品質の平面スパッタリングターゲットを提供します。 私たちの目標は、あなたの特定の要件に合うように、さまざまな純度レベルで提供されています...
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制品の詳細

高品質プレーナスパッタリングターゲット

IKSは高品質を提供します 強磁性、複合酸化物、および半導体膜の広範囲の用途向けの平面スパッタリングターゲットである。 当社の目標は様々な純度レベルで提供されている 99.5%から99.99%までの純度の元素および合金に対して、 お客様の特定の要件に合うように設計されています

高度な熱間静水圧プレス(HIP)、 真空焼結および真空溶解技術を採用したIKSの平面スパッタリングターゲットは、高純度、高密度、均質な組成、微細粒度および長寿命を特徴としています。 私たちは、すべてのステップ(原材料から完成品まで)を監視して、高品質のターゲットのみを工場から出荷できるようにします。

IKSは、高品質の平面ターゲットのすべての形状とサイズを製造しています 必要な材料と寸法をお知らせください。特別な要件を満たします。

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主な製品一覧:

材料

シンボル

原子比

純度

相対密度

在庫寸法

技術

特徴

クロム

Cr

_____

99.5%〜99.95%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

良好な耐酸化性

タングステン

W

_____

99.9%〜99.95%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

高硬度

チタン

Ti

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

耐摩耗性

ニッケル

Ni

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

偉大な腐食抵抗

モリブデン

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

偉大な腐食抵抗

シリコン

Si

_____

99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空焼結

高硬度

Ag

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

良好な電気伝導率と熱伝導率

タンタル

Ta

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

高延性

Cu

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

高延性、良好な熱伝導率および耐腐食性

黒鉛


_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空焼結

高硬度

アルミニウム

アル

_____

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

真空溶解

良好な延性、熱伝導率および耐腐食性

シリコン - アルミニウム

SiAl

25/75 30/70 40/60 50/50

99.9%〜99.99%

> 99%

750x125x10mm
170x75x12mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

高延性と耐摩耗性

チタン - アルミニウム

TiAl

30/70 33/67 40/60 45/55 50/50 60/40 70/30 75/25 80/20

> 99.7%(2N7)

> 99%

754x154x18mm
331x174x22mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

高い機械的強度と良好な耐腐食性

クロム - アルミニウム

CrAl

25/75 30/70 40/60 50/50

> 99.7%(2N7)

> 99%

754x154x18mm
490x96x8mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

良好な耐酸化性および耐腐食性

チタン - アルミニウム - シリコン

TiAlSi

30/60/10 40/50/10

> 99.7%(2N7)

> 99%

754x154x18mm
331x174x22mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

高硬度および延性

クロム - アルミニウム - シリコン

CrAlSi

30/60/10 40/50/10

> 99.7%(2N7)

> 99%

754x154x18mm
331x174x22mm

ホットアイソスタティックプレス(HIP)

良好な耐酸化性および耐腐食性

詳しくは:

認証:ISO9001

平均粒子サイズ:30〜40μm(国家標準は100μm)

形状:長方形のターゲット、円形のターゲット

その他の特別仕様はお客様のご要望に応じてご利用いただけます。

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TiAlスパッタリングターゲットの品質解析

(サンプルとしてTiAlを30/70原子%とする)

主成分(重量%)

不純物含有量(%)

TiAl

C

N

O

Fe

Si

S

> 99.7

0.01

0.006

0.2

0.06

0.02

0.002

Ti

アル





46.87%

バランス






寸法:754x154x18mm

真密度:3.31(g / cm 3

理論密度:> 99%

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当社の平面ターゲットの平均粒径は30〜40μmであり、これは国内標準(100μm)をはるかに下回ります。

IKSの利点:

●シルバー、チタン、アルミ、シリコン、シリコン - アルミニウム - チタン - アルミニウム - シリコン、グラファイトなど、お客様のニーズに合ったさまざまな材料。

●信じられないほど小さな粒度と均一な微細構造は、寿命の満了による一貫したプロセス性能を保証します。

完全な均質性と高純度のターゲットは、コーティングプロセスがより安定し、堆積層がより高品質であることを保証します。

●優れた密度は、コーティングプロセスが特に高いレベルの導電性から恩恵を受けることを保証します。

●高密度による優れたスパッタリング速度は、より多くの時間を節約するのに役立ちます。

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応用:

近年、スパッタリングが広く応用されている 半導体産業では、集積回路加工における様々な材料の薄膜堆積、省エネルギーのための建築 および 自動車用ガラス、ハードウェア用のカラフルな装飾コーティング、ツールおよび消費財用のハードコーティング、およびCD製作中の金属の析出

 

ハードウェアコーティングの 機能

切削工具、パンチング、成形金型の耐食性と耐摩耗性に優れた硬質表面を提供することで、サービス時間を短縮すると同時に、送り速度の向上、優れた切削性能、優れた金属除去率を容易に達成できます。

また、自動車エンジンで使用される場合、精密部品の表面の摩擦係数を効果的に低減することができる。

 

装飾塗料の機能:

携帯電話、ジュエリー、腕時計、眼鏡、自動車装飾品、家電製品、バスルーム、キッチンハードウェアなどのハードコーティングのための良好な耐引掻性と装飾的なカラフル仕上げを確保する

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