真空蒸着コーティングプロセスの初期知識

- May 23, 2019-

真空蒸着コーティングプロセスの初期知識

 

真空蒸着装置構造の主な構成要素は以下の通りです。

(1)真空チャンバ。蒸発に必要な真空度を提供し、蒸発中に材料が酸化するのを防ぐ。 (2)蒸発源および蒸発ヒータ。これらは主に蒸発材料を配置しそれらを加熱するために使用される。 (3)蒸発物質を受容し、その表面に固体蒸発膜を形成するための基材。 (4)ベースプレートを加熱するためのベースプレートヒータ。 (5)温度測定装置は熱電対温度測定装置である。

 

真空蒸着コーティングは以下の工程からなる。 凝縮相から気相(固相、液相または気相)への相転移を含む加熱および蒸発プロセス。 化合物が各物質から異なる温度および異なる飽和蒸気圧で蒸発すると、その成分は互いに反応し、その一部は気体または蒸気として蒸発空間に入る。 蒸発源と基板間の蒸発原子または分子の輸送 これらの粒子と空間の飛行中の真空チャンバ内の残留ガス分子との間の衝突数は、蒸発原子のガス分子間の衝突数、蒸発原子の平均自由行程、および蒸発原子間の距離に依存する。蒸発源および基板。 気化した原子または分子が基板上に堆積するプロセス、すなわち、蒸気凝縮、核形成、核成長および連続薄膜の形成のプロセス。 基板温度は蒸発源の温度よりもはるかに低いので、堆積物分子の相転移は気相から固相への基板表面上で直接起こる。

 

真空蒸着の過程では、原子または分子の蒸発が多数の空気分子と衝突する、膜層の汚染、酸化物の形成、または蒸発源でさえ加熱酸化燃焼であるため、蒸着コーティングのための真空環境は決定的な役割を有する。あるいは、衝突阻止空気分子のために、均質な連続薄膜を形成することは困難である。 そのため、安定した真空を保つことが重要であり、蒸発プロセスには材料の飽和蒸気圧理論も含まれます。 そのため、蒸発過程を理解するためには飽和蒸気圧についても知っておく必要があります。


IKS PVD、蒸着装置、連絡先:iks.pvd@foxmail.com

微信图片_20190321134200