PVD コーティング知識の導入

- Mar 06, 2019-

PVD コーティング知識の導入


IKS PVD、iks.pvd@foxmail.com


PVD (物理蒸着法): 物理的なプロセスを使用して原子や分子を基板表面のソースから転送するプロセス。その役割は、マトリックスがあるパフォーマンスを向上させるように、いくつかパフォーマンスが低く、マトリックスに溶射粒子の特殊な特性 (高強度、耐摩耗性、放熱性、耐腐食性等) をすることです。Pvd 法の基本的な方法: 真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング (中空陰極イオンめっき熱陰極イオンめっき、アークイオンプレーティング、反応性イオンプレーティング法、高周波イオンプレーティング dc 放電イオンプレーティング)

 

PVD 技術は、高硬度、低摩擦係数、摩耗抵抗および化学安定性および他の利点を持つ薄膜の作製に浮上しました。最初は、高速度鋼工具の分野で成功したアプリケーションは、世界中の製造業からの注目を集めています。高性能、高信頼性コーティング装置を開発しているとき人々 は、セラミック工具と超硬コーティング アプリケーションに関するさらに詳細な研究も実施しています。CVD プロセスと比較して、PVD プロセス温度が低い、下 600 です。とき切断の曲げ強度工具材料;膜の内部応力状態は圧縮応力、超硬精密、複雑なツールのコーティングにより適しています。PVD プロセスは、近代的な緑製造の開発方向に沿って、環境に悪影響を与えません。現時点では、PVD コーティング技術は、超硬エンドミルのコーティング処理で広く使用されています、ドリル ・ ビット、ステップ ドリル、オイルホール ドリル、リーマ、タップ、フライス、回転刃、特殊形状カッター、カッターのように溶接します。

 

PVD 技術薄膜と、ツールのマトリックス材料の接着強度を向上させるだけでなく、また TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、スズ aln、CNx、DLC および ta-c にから第一世代の TiN コーティング組成物を開発するなど [2]

 

強化された磁場制御の陰極アーク: 陰極アーク技術低電圧、高電流イオンの状態にターゲットを崩壊による真空の条件の下で薄膜材料の蒸着を完了することです。強化されたマグネトロン陰極アーク効果的に材料のイオン化割合が高いと、フィルムの性能が良いので電磁界の相互作用を使用してターゲット材料の表面にアークを制御できます。

 

フィルター処理された陰極アーク: 堆積粒子の磁気濾過後プラズマとイオン質量フィルター、クリーンで巨視的粒子群による高効率イオン源を備えたフィルター処理された陰極アーク (FCA) 電磁ろ過システムを作り出すことがイオン化率は 100% であったし、映画の準備は非常にコンパクトで、耐食性が良好で、滑らかな体の接着力が非常に強いので、大きい粒子をフィルター処理できます。

 

マグネトロンスパッタ リング法: 電圧と磁場、イオン、原子または分子の形で排出されに基板上のターゲットの結果の結合作用によってイオンの不活性ガスのイオンによって真空環境でターゲットを衝撃膜を形成します。イオン化ソースの使用によって導体と絶縁材料をターゲット材としてスパッタされることができます。

 

イオンビーム DLC: 炭化水素ガスがプラズマ イオン源でイオン化され。電磁界の作用、炭素イオンはイオン源から解放されます。イオンビームのエネルギーを制御するには、プラズマに印加電圧を調整します。炭化水素イオンビームが基板に向けられてし、成膜速度はイオン電流密度に比例します。星アーク コーティングのイオン ビーム源はのでイオン エネルギーが大きく、映画になるし、基板密着高電圧です。大きいイオン電流は、DLC 膜の成膜速度を速くなります。イオン ビーム技術の主な利点は、それは超薄い沈殿できると多層構造、プロセス制御精度は、数オングストロームを達することができる過程で粒子の汚染によって引き起こされる欠陥を最小限にできます。

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