マルチアークイオンプレーティング膜の組成と構造に及ぼすパルスバイアスの影響

- Jul 13, 2018-


パルスバイアスおよびデューティサイクルの増加に伴い、表面上の大きな粒子が大幅に減少し、表面トポグラフィ効果がより良好になる。

 

バイアス電圧のピーク値が増加すると、堆積速度が小さくなる。 デューティ比を大きくすると、最初にデポレートが増加してから減少し、デューティ比が40%であればデポレートが最も大きくなる。

 

Alの原子百分率は主にパルスバイアスのピーク値の影響を受け、バイアス電圧の増加とともに減少する。 Ti原子のパーセンテージは主にデューティサイクルの影響を受け、デューティサイクルの増加とともに減少する。

 

パルスバイアスの増加に伴って、フィルムの硬度が最初に増加し、次いで減少する。 デューティサイクルの増加に伴って、フィルムの硬度が最初に増加し、次いで減少し、明らかな変化がある。