マグネトロンカソードスパッタリングターゲットの分類

- Jun 08, 2018-


マグネトロンスパッタリングターゲット は、真空コーティングの機械部品であり、パワーエレクトロニクス部品でもあります。 ターゲット電源の使用の観点から、我々はその電気的性能をより心配している。

 

1.機械的構造

 

機械的構造及びターゲット形状によれば、マグネトロンスパッタリングターゲットは、主として平面(長方形又は円形)マグネトロンターゲット、同軸強磁性マグネトロンターゲット、リング状コニカルマグネトロンターゲット(Sガン)等に分割される。

 

平面ターゲット材料

 

平面ターゲットは、平面矩形マグネトロンターゲット、平面円形マグネトロンターゲット、およびアーク - マグネトロン二重目的複合構造平面ターゲットに分割される。

 

磁界に応じて

 

(1)マグネトロンターゲットは、磁場の形成形態によって永久磁石と電磁石に分類することができる。

 

(2)真空チャンバ内でのマグネトロンターゲットの配置・分布位置の違いや、磁極や磁力線の分布状態の違いにより、バランス型マグネトロンスパッタリングとアンバランスドマグネトロンスパッタリング(不平衡マグネトロンスパッタリングプラズマをターゲット表面から遠ざけることができ、プロファイルされたワークピースの表面膜品質および大面積イオン堆積効果を改善することができる)。マルチターゲット閉磁界不平衡マグネトロンスパッタリングシステムは、高い堆積速度およびより高品質の薄膜を得ることができる。

 

(3)マグネトロンスパッタリングターゲットの不平衡磁場は、内外の永久磁石の大きさや強度を変えるだけでなく、2組の電磁コイルでも、電磁コイルと永久磁石の混合構造でも得ることができる陰極と基板との間に磁場を変化させるために陰極と基板との間に追加のソレノイドを追加し、最良の結果を得るために堆積中の陽イオンと原子の比を制御する。