技術パラメータ
1. 有効設置スペース : W7000XL23000XH1500mm | 7.スパッタリング:DCマグネトロンスパッタリング |
真空チャンバー : W1650XL16400XH500mm | 8.蒸着速度: 1回あたり 2.5 µm 未満 、0.5 nm精度 |
3.ローディングフレーム:W1050XL1050 | 9.Design:真空室とプロセスのモジュール化設計 |
ターゲット材料:双子ターゲットW110XL1050mm、または双子ターゲット Ф110XL1050mm | 10.プロセス:流量計とバルブ制御プロセスガス |
5.ワークピース:セラミックチップ、厚さは2〜15mm | 11.電源:380V 50Hz |
6.バキュームレンジ:ATM-6X10 -4 Pa | 12. 外部フランジ:KF16とKF25 |
真空システム:ロータリーポンプ、ルーツポンプ、分子ポンプ |