仕様
真空室 | φ13 00 × H 1300 | 有効コーティングスペース | φ11 50 × H 9 00 |
電圧/ Hz | 380V / 50Hz | 実力 | 70 KW |
ワーク 最大径 × ピース × 品質 | φ150 × 18個 | ターゲット | 4 中周波数マグネトロン 円筒 ターゲット/ 10アークターゲット/ 2 平面ターゲット |
技術 | 中周波数 + アーク 平面ターゲット +イオン源（オプション） | リークレート | <> -3 Pa.L / s |
到達圧力 | 5.0×10 -4 Pa | 職業スペース | L 3600 ×W 3500 ×H 2500 MM |
ポンプ ダウン 時間 | （ 4X10 -3まで） Pa ） ≦20 分 | 真空チャンバー構造 | 垂直シングルオープン |
ワーク ピースターンテーブル | 下部フレーム構造 | 真空システム | 分子ポンプ、ルーツポンプ、ロータリーベーンポンプ |
電源 | 必要条件 | 循環水圧 ： 2-3KG / CM 3 フロー ： 10T / H 圧縮空気 ： 4-6KG / CM 3 | |
コーティングサイクル | 0.5〜2 時間/炉 | 作動ガス | Ar 、 N 2 、 O 2 、 C 2 H 2 など |
操作 モード | マニュアル＋ セミオート +フルオート/トーチスクリーン+ PLC | 応用 | 装飾用PVDメッキ |
備考 | 炉、 見通し その他のパラメータ および 要件に応じた カスタマイズ | ||